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Oji Holdings présente ses résultats en matière de photorésistance issue de la biomasse à base de bois au salon SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026

PUBT·09/04/2026 02:06:01
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Oji Holdings présente ses résultats en matière de photorésistance issue de la biomasse à base de bois au salon SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026
  • Oji Holdings présentera ses résultats de photorésistance à base de biomasse à base de bois lors du salon SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026 du 8 au 11 septembre 2026.
  • L'évaluation EUV à haute teneur en NA a révélé des motifs de lignes de 10 nm et des motifs de trous de 16 nm, ce qui confirme une utilisation potentielle dans les procédés de puces de génération A14.


Avertissement : Ce bulletin d'information a été créé par Public Technologies (PUBT) à l'aide de l'intelligence artificielle générative. Bien que PUBT s'efforce de fournir des informations précises et opportunes, ce contenu généré par l'IA est fourni à titre informatif uniquement et ne doit pas être interprété comme un conseil financier, d'investissement ou juridique. Oji Holdings Corporation a publié le contenu original utilisé pour générer cette note d'actualité le 4 septembre 2026 et est seule responsable des informations qu'il contient.